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모델 :
MO-D330-6보증 :
1 year1m 거리에서의 일사량 :
>100 mW/cm²일률 :
±10%172nm 중심 조도 :
>70 mW/cm² @3mm평균 사용 수명(조도 70% 이상) :
2,500 hrs크기 :
(350×350mm irradiation window)작동 습도 :
20%~80%작동 온도 :
-5°C~30°C총 전력 :
1200W ±10%입력 전압(V) :
AC 110~240V중국 엑시머 램프 전문 제조업체로서
172nm VUV 광선은 산화력이 매우 강합니다. 웨이퍼 표면의 유기물 찌꺼기와 미세 입자를 분해하여 잔류물을 남기지 않습니다. 이는 정확한 반도체 제조를 보장합니다.
172nm 엑시머 램프는 고에너지 자외선을 방출합니다. 이 자외선은 OLED/디스플레이 패널 마스크의 불순물을 제거하여 픽셀 결함을 방지하며, BOE, TCL CSOT 생산 라인에 적합합니다.
FMM 정밀 금속 마스크 세척용 UV 램프, 인바 마스크 세척용 172nm 엑시머 램프
OLED 증착 마스크 UV 세척, 172nm VUV 금속 마스크 세척
172nm VUV 광선은 마스크 표면의 유기물을 분해합니다. 마스크 구조는 손상되지 않으므로 정확한 픽셀 위치를 보장합니다. 이는 생산 수율을 직접적으로 향상시킵니다.
172nm VUV 롤러 코팅 시스템, 엑시머 UV 무광택 처리.
172nm 엑시머 UV 광선은 필름 표면을 변형시켜 거친 질감을 만들어 무광택 효과를 내고 코팅 접착력을 향상시킵니다. 연속 롤러 코팅 공정에 적합합니다.
표면 조사 강도 > 100 mW/cm²; 70 mW/cm² (@3mm). 유기 오염 물질을 효율적으로 제거합니다.
프리미엄 전극 및 정밀한 가스 제어. 2500시간 이상의 기본 수명. 1000시간 품질 보증 (내구성 저하 포함) < 30% 할인. 전문가용으로 최대 3000시간 이상 사용 가능.
조사 창 크기 350×350mm, 균일도 ±10%. 창 크기는 고객 요구사항에 따라 맞춤 제작 가능합니다.
예열이 필요 없이 즉시 시동됩니다. 고주파 작동 및 롤투롤 롤러 코팅 시스템을 지원합니다.
-5°C ~ 30°C의 온도 범위에서 안정적인 작동을 보장하며, 클린룸 및 온도 조절 구역에 적합합니다.
다양한 생산 설비와 호환됩니다. 신속한 납기 및 개발 비용 제로로 맞춤형 솔루션을 제공합니다.
172nm 파장의 무수은 자외선 광원을 사용하여 안전성과 환경 보호를 보장합니다.
30년 이상의 UV 조명 분야 및 장비 제조 경험을 바탕으로 대규모 생산 능력, 높은 제품 일관성, 안정적인 성능, 신뢰할 수 있는 정시 납품을 보장합니다.
인증된 품질 관리 시스템을 통해 최상의 제조 기준을 보장합니다.
유럽의 보건, 안전 및 환경 보호 법규를 완벽하게 준수합니다.
유해 물질이 전혀 없는 친환경 제조 방식입니다.
북미 최고 수준의 전기 보안 및 화재 예방 규정 준수 표준입니다.
172nm VUV 엑시머 램프는 기체 방전을 통해 고에너지 진공 자외선을 발생시킵니다. 이 램프는 일반적인 유기 분자의 결합 에너지를 훨씬 뛰어넘는 높은 광자 에너지를 특징으로 합니다.
빛은 강력한 분자 결합 파괴 능력을 통해 유기 오염 물질을 직접 분해합니다. 또한 반응성 산소종을 생성하여 세척 및 총 유기 탄소(TOC) 제거 효과를 향상시킵니다.
신뢰할 수 있는 우시오 엑시머 램프 대체품 및 하마마츠 172nm 대체품으로서 반도체 세척, 냉각판 세척, CDU 및 UPW 수처리, 필름 매팅 및 기타 산업 분야에 적합합니다.
초순수(UPW) 시스템용으로 설계된 이 제품은 친환경적이며 수은이 함유되어 있지 않습니다. 172nm VUV 모듈 강력한 라디칼 산화 반응을 일으켜 총 유기 탄소(TOC)를 ppb 수준까지 낮춥니다. 유기 화합물을 미량의 CO₂와 H₂O로 변환하여 반도체, 제약 및 실험실에 이상적인 수처리 솔루션을 제공합니다. 스마트한 모듈식 설계로 현장 유지보수 및 시스템 확장이 간편하며, 사용자 지정 전력 및 유량 설정을 완벽하게 지원합니다.
GMY 제품으로 표면 처리 정밀도를 향상시키세요 172nm 엑시머 램프고급 기술을 활용하여 광화학적 산화당사의 무수은 172nm UV 광선 솔루션은 유기 오염 물질을 효과적으로 분해하여 반도체 웨이퍼, 디스플레이 기판 및 광학 장치에서 원자 수준의 청결도를 달성합니다.
GMY의 고효율을 경험해 보세요 172nm 엑시머 램프 ~을 위한 산업용 광경화무수은, 강력한 350W~1000W VUV 광선을 사용하여 신속한 표면 가교, 무광 마감 및 PPF/PCB 코팅 개질을 구현합니다. 기존 UV 경화 방식에 비해 경화 시간을 단축하고 표면 개질 효과를 향상시킵니다.
그만큼 GMY 172nm 광변형 모듈 본 모듈은 치과 임플란트의 친수성 활성화를 위한 최고의 진공 호환 솔루션입니다. 정밀한 172nm 엑시머 기술을 통해 유기 탄화수소를 분해하여 티타늄 표면을 정화함으로써 TiO2의 생체 활성 및 골융합을 획기적으로 향상시킵니다. 원활한 장치 통합을 위해 설계된 이 모듈은 높은 출력, 최소한의 열 영향, 빠른 반응 속도, 그리고 광범위하고 균일한 빔 조사 범위를 자랑합니다.
GMY 172nm 엑시머 램프 고에너지 VUV 방사선을 제공합니다 TOC를 분해하다 초순수에서 ppb 수준까지 유해 물질을 제거합니다. 산업용수 처리에 적합한 무수은 15W/20W 램프를 사용합니다. 당사의 UV 광 시스템은 자유 라디칼을 생성하여 유기물을 CO₂와 H₂O 분자로 산화시킵니다. 이 첨단 기술은 초순수 생산에 특히 적합합니다.
그만큼 172nm 엑시머 UV 장치 배달합니다 고에너지 광세척 그리고 나노 수준 표면 개조 반도체, 배터리 및 첨단 소재 분야에 사용됩니다. 172nm의 차가운 자외선 광자를 활용하는 이 소형 시스템은 기판 손상 없이 유기 화학 결합을 끊고 오염 물질을 산화시킵니다. 높은 균일성을 제공합니다. ±15% 작동 온도가 40°C 미만이므로 기존의 저압 수은 램프를 대체할 수 있는 친환경적이고 에너지 소비가 적은 대안을 제공합니다.
