GMY 172nm 엑시머 수처리 솔루션은 심진공 자외선 기술을 활용하여 효율적인 총 유기 탄소(TOC) 저감을 제공합니다. 엄격한 단색광인 172nm 파장에서 작동합니다.
이 광원은 미량의 유기 오염 물질을 한 자릿수 ppb 수준까지 직접 분해합니다.
엄격한 초순수 산업용수 기준을 충족합니다.
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| 모델 | 힘 | 6mm에서의 자외선 조사량 | 튜브 크기 (지름 × 길이) | 방출 길이 | 제품 코드 |
|---|---|---|---|---|---|
| 172E15D16.5×80 | 15와트 | >23 mW/cm² | 직경 16.5mm × 80mm | 55mm | A5201201001000 |
| 172E20D16.5×141 | 20와트 | >23 mW/cm² | 직경 16.5mm × 길이 141mm | 75mm | A5201211001000 |
100% 수은이 없는 VUV 기술. 반도체, 제약 및 식품 등급 초순수 시스템에 안전하게 통합되며 중금속 누출이나 오염 위험이 전혀 없습니다.
고에너지 172nm 광자를 방출하여 물 분자를 직접 분해하고 활성 하이드록실 라디칼(HO•)을 생성함으로써 난분해성 유기 미량 원소를 빠르게 산화시킵니다.
자동화된 정밀 제조 라인에서 제작되어 중요한 산업 시스템에 안정적인 단색광 출력(>23 mW/cm²)과 신뢰할 수 있는 스펙트럼 성능을 제공합니다.
램프 길이, 직경, 전기 단자 및 통합 전자식 안정기 조합 등 다양한 맞춤형 사양을 제공하여 수 톤 규모의 처리 챔버에 맞출 수 있습니다.
고순도 산업용수 처리 시스템에서 총 유기 탄소(TOC)를 한 자릿수 ppb 수준까지 효율적으로 제거합니다.
음용수에 남아있는 미량의 화학 오염 물질을 제거하기 위한 첨단 수처리 및 정화 설비.
산업 유입수 내 난분해성 화학 구조 및 잔류성 유기 살충제 성분의 심층 광분해 및 균열.
난분해성 유기 염료 및 난분해성 화합물에 특화된 광촉매 탈색 및 고급 산화 필터링 기술.
강력한 단색광 172nm 산소 광분해를 이용하여 독성 NOx를 생성하지 않고 깨끗하고 고농도의 오존을 생성합니다.
인증된 품질 관리 시스템을 통해 최상의 제조 기준을 보장합니다.
유럽의 보건, 안전 및 환경 보호 법규를 완벽하게 준수합니다.
유해 물질이 전혀 없는 친환경 제조 방식입니다.
북미 최고 수준의 전기 보안 및 화재 예방 규정 준수 표준입니다.
초순수(UPW) 시스템용으로 설계된 이 제품은 친환경적이며 수은이 함유되어 있지 않습니다. 172nm VUV 모듈 강력한 라디칼 산화 반응을 일으켜 총 유기 탄소(TOC)를 ppb 수준까지 낮춥니다. 유기 화합물을 미량의 CO₂와 H₂O로 변환하여 반도체, 제약 및 실험실에 이상적인 수처리 솔루션을 제공합니다. 스마트한 모듈식 설계로 현장 유지보수 및 시스템 확장이 간편하며, 사용자 지정 전력 및 유량 설정을 완벽하게 지원합니다.
GMY 제품으로 표면 처리 정밀도를 향상시키세요 172nm 엑시머 램프고급 기술을 활용하여 광화학적 산화당사의 무수은 172nm UV 광선 솔루션은 유기 오염 물질을 효과적으로 분해하여 반도체 웨이퍼, 디스플레이 기판 및 광학 장치에서 원자 수준의 청결도를 달성합니다.
GMY의 고효율을 경험해 보세요 172nm 엑시머 램프 ~을 위한 산업용 광경화무수은, 강력한 350W~1000W VUV 광선을 사용하여 신속한 표면 가교, 무광 마감 및 PPF/PCB 코팅 개질을 구현합니다. 기존 UV 경화 방식에 비해 경화 시간을 단축하고 표면 개질 효과를 향상시킵니다.
그만큼 GMY 172nm 광변형 모듈 본 모듈은 치과 임플란트의 친수성 활성화를 위한 최고의 진공 호환 솔루션입니다. 정밀한 172nm 엑시머 기술을 통해 유기 탄화수소를 분해하여 티타늄 표면을 정화함으로써 TiO2의 생체 활성 및 골융합을 획기적으로 향상시킵니다. 원활한 장치 통합을 위해 설계된 이 모듈은 높은 출력, 최소한의 열 영향, 빠른 반응 속도, 그리고 광범위하고 균일한 빔 조사 범위를 자랑합니다.
GMY 172nm 엑시머 램프 고에너지 VUV 방사선을 제공합니다 TOC를 분해하다 초순수에서 ppb 수준까지 유해 물질을 제거합니다. 산업용수 처리에 적합한 무수은 15W/20W 램프를 사용합니다. 당사의 UV 광 시스템은 자유 라디칼을 생성하여 유기물을 CO₂와 H₂O 분자로 산화시킵니다. 이 첨단 기술은 초순수 생산에 특히 적합합니다.
그만큼 172nm 엑시머 UV 장치 배달합니다 고에너지 광세척 그리고 나노 수준 표면 개조 반도체, 배터리 및 첨단 소재 분야에 사용됩니다. 172nm의 차가운 자외선 광자를 활용하는 이 소형 시스템은 기판 손상 없이 유기 화학 결합을 끊고 오염 물질을 산화시킵니다. 높은 균일성을 제공합니다. ±15% 작동 온도가 40°C 미만이므로 기존의 저압 수은 램프를 대체할 수 있는 친환경적이고 에너지 소비가 적은 대안을 제공합니다.
