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초순수(UPW) 시스템용으로 설계된 이 제품은 친환경적이며 수은이 함유되어 있지 않습니다. 172nm VUV 모듈 강력한 라디칼 산화 반응을 일으켜 총 유기 탄소(TOC)를 ppb 수준까지 낮춥니다. 유기 화합물을 미량의 CO₂와 H₂O로 변환하여 반도체, 제약 및 실험실에 이상적인 수처리 솔루션을 제공합니다. 스마트한 모듈식 설계로 현장 유지보수 및 시스템 확장이 간편하며, 사용자 지정 전력 및 유량 설정을 완벽하게 지원합니다.
치료 균일성 :
±10%172nm 조사량(중심점) :
>20 mW/cm² (@1mm)평균 서비스 수명 :
1,000 hrs (irradiance ≥70%)작동 전압 :
AC 2.0kV +20%램프 전력 :
20W ±10%AI 냉각판 유기 입자 제거, CDU 수처리 TOC 감소 및 초순수 정화를 위한 172nm 엑시머 모듈
GMY 172nm VUV 엑시머 램프 모듈은 AI 인프라의 두 가지 중요한 액체 냉각 및 수처리 응용 분야를 위해 설계되었습니다. (1) AI 서버 냉각판 유기 입자 제거 - 172nm 진공 자외선 광자 스트림은 냉각판 표면의 유기 분자를 광분해하여 액체 냉각 루프의 입자 수와 크기를 크게 줄입니다. (2) CDU 보충수 TOC 감소 - CDU 급수 라인 내부에서 작동하여 초순수의 총 유기 탄소를 ppb 수준으로 줄이기 위해 라디칼 산화를 생성하여 화학 약품 투입을 대체합니다.
수은이 함유되지 않은 즉시 작동 모듈로서 1mm 두께에서 20mW/cm² 이상의 출력을 제공하며, 유량, 와트, 인터페이스 크기에 대한 완벽한 OEM 맞춤 제작이 가능하여 비용 효율적인 중국산 대안으로 활용될 수 있습니다.
우리의 장점:
172nm VUV 광자는 냉각판 표면의 유기 오염 물질을 직접 광분해하여 액체 냉각 루프 내 유기 입자의 크기와 개수를 모두 줄입니다. 이 UV 기반 냉각판 세척 방식은 화학 약품 세척을 대체하거나 보완하여 AI 서버의 열 성능과 CDU 시스템의 신뢰성을 보장합니다.
냉각수 분배 장치(CDU) 보충수 순환 라인에 직접 설치되는 172nm UV 모듈입니다. 라디칼 산화 반응을 통해 용존 유기 화합물을 분해하여 총 유기 탄소(TOC) 농도를 한 자릿수 ppb 수준으로 낮추고, 재순환되는 AI 액체 냉각수의 유기 입자 부하를 감소시킵니다.
대상: CDU 메이크업 워터 TOC 제거 UV/172nm UV 램프를 이용한 CDU 수처리
반도체 제조 공장의 초순수(UPW) 순환 시스템에 172nm VUV 광자를 사용하여 미량의 유기 분자를 CO2와 H2O로 빠르게 산화시켜 ppb 수준의 TOC(총 유기 탄소) 제어를 달성합니다. ITRS 7nm/5nm 로드맵의 순도 요구 사항을 충족합니다.
목표: UPW TOC 제거 UV 램프 / UV를 이용한 초순수 TOC 감소
고급 실험실용 정수 장비에 적합한 소형 172nm VUV 유기물 분해 코어입니다. 모듈식 플러그인 설계로 손쉬운 통합 및 교체가 가능합니다.
20mW/cm²(@1mm)의 출력을 제공하여 TOC를 ppb 수준까지 신속하게 감소시킵니다.
장기간 안정적인 산업 공정을 위해 설계되었으며, 1,000시간 이상 동안 70% 이상의 강도를 유지합니다.
균일한 물 정화를 보장하기 위해 변동 범위를 엄격하게 제한합니다.
내식성 석영 슬리브와 모듈식 구조를 사용하여 파이프라인 설치 및 교체 비용을 대폭 절감합니다.
전력 용량, 인터페이스 크기 및 장착 방식을 특정 유량에 맞게 맞춤 설정할 수 있습니다.
친환경적이고 수은이 없는 172nm 기술을 채택하여 전 세계적인 환경 규제를 충족합니다.
VUV 제조 분야의 심도 있는 전문성을 바탕으로 높은 배치 일관성과 정시 글로벌 배송을 보장합니다.
인증된 품질 관리 시스템을 통해 최고 수준의 제조 기준을 보장합니다.
유럽의 보건, 안전 및 환경 보호 법규를 완벽하게 준수합니다.
유해 물질이 전혀 없는 친환경 제조 방식입니다.
북미 최고 수준의 전기 보안 및 화재 예방 규정 준수 표준입니다.
초순수(UPW) 시스템용으로 설계된 이 제품은 친환경적이며 수은이 함유되어 있지 않습니다. 172nm VUV 모듈 강력한 라디칼 산화 반응을 일으켜 총 유기 탄소(TOC)를 ppb 수준까지 낮춥니다. 유기 화합물을 미량의 CO₂와 H₂O로 변환하여 반도체, 제약 및 실험실에 이상적인 수처리 솔루션을 제공합니다. 스마트한 모듈식 설계로 현장 유지보수 및 시스템 확장이 간편하며, 사용자 지정 전력 및 유량 설정을 완벽하게 지원합니다.
GMY 제품으로 표면 처리 정밀도를 향상시키세요 172nm 엑시머 램프고급 기술을 활용하여 광화학적 산화당사의 무수은 172nm UV 광선 솔루션은 유기 오염 물질을 효과적으로 분해하여 반도체 웨이퍼, 디스플레이 기판 및 광학 장치에서 원자 수준의 청결도를 달성합니다.
GMY의 고효율을 경험해 보세요 172nm 엑시머 램프 ~을 위한 산업용 광경화무수은, 강력한 350W~1000W VUV 광선을 사용하여 신속한 표면 가교, 무광 마감 및 PPF/PCB 코팅 개질을 구현합니다. 기존 UV 경화 방식에 비해 경화 시간을 단축하고 표면 개질 효과를 향상시킵니다.
그만큼 GMY 172nm 광변형 모듈 본 모듈은 치과 임플란트의 친수성 활성화를 위한 최고의 진공 호환 솔루션입니다. 정밀한 172nm 엑시머 기술을 통해 유기 탄화수소를 분해하여 티타늄 표면을 정화함으로써 TiO2의 생체 활성 및 골융합을 획기적으로 향상시킵니다. 원활한 장치 통합을 위해 설계된 이 모듈은 높은 출력, 최소한의 열 영향, 빠른 반응 속도, 그리고 광범위하고 균일한 빔 조사 범위를 자랑합니다.
GMY 172nm 엑시머 램프 고에너지 VUV 방사선을 제공합니다 TOC를 분해하다 초순수에서 ppb 수준까지 유해 물질을 제거합니다. 산업용수 처리에 적합한 무수은 15W/20W 램프를 사용합니다. 당사의 UV 광 시스템은 자유 라디칼을 생성하여 유기물을 CO₂와 H₂O 분자로 산화시킵니다. 이 첨단 기술은 초순수 생산에 특히 적합합니다.
그만큼 172nm 엑시머 UV 장치 배달합니다 고에너지 광세척 그리고 나노 수준 표면 개조 반도체, 배터리 및 첨단 소재 분야에 사용됩니다. 172nm의 차가운 자외선 광자를 활용하는 이 소형 시스템은 기판 손상 없이 유기 화학 결합을 끊고 오염 물질을 산화시킵니다. 높은 균일성을 제공합니다. ±15% 작동 온도가 40°C 미만이므로 기존의 저압 수은 램프를 대체할 수 있는 친환경적이고 에너지 소비가 적은 대안을 제공합니다.
