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과불화알킬물질(PFAS)은 생체 축적성이 매우 높고 독성이 강한 신종 잔류성 유기 오염물질로서, 기존의 수질 정화 공정으로는 분해가 극히 어렵습니다. 이러한 전 지구적 환경 문제에 대응하기 위해 일본의 최신 환경 실증 연구는 172nm 엑시머 광을 이용한 광분해 및 무해 처리라는 새로운 기술적 방향을 제시했습니다. 이는 PFAS와 같은 난치성 유기 화합물을 물리적으로 매우 효율적으로 제거하는 방법입니다.
기술적 배경: PFAS 제거의 딜레마 – “영구 화학물질”
PFAS(과불화알킬물질)는 대표적인 합성 유기 화합물입니다. 분자 구조 내의 매우 강한 탄소-불소 결합으로 인해 화학적 안정성, 내열성, 소수성 및 친유성이 뛰어나며, 다양한 산업 제조 및 소비재에 널리 사용됩니다. 자연에서 자연 분해가 거의 불가능하기 때문에 업계에서는 "영원한 화학물질"이라고 불리며, 장기적으로 수질 안전에 심각한 문제를 야기합니다.
172nm 엑시머 광분해 메커니즘 및 정량적 효율
PFAS의 172nm 엑시머 광분해 공정 흐름 및 핵심 메커니즘은 다음과 같습니다.
공정 흐름: 먼저, 전처리 회수 및 농축 기술을 통해 유체 내 PFAS를 높은 속도로 추출 및 응집시킵니다.
반응 메커니즘: 이어서 172nm 엑시머 광원을 도입하여 고에너지 양자 복사선을 조사합니다. 고속의 시너지 효과를 통해 물 분자가 분해되면서 고반응성 하이드록실 라디칼(·OH)과 전자가 생성되고, 분자 사슬이 직접적으로 끊어집니다.
실증적 증거: 실험 데이터에 따르면, 물 속의 PFOA(퍼플루오로옥탄산) 및 PFOS(퍼플루오로옥탄술폰산)는 mg/L의 고농도에서도 특정 반응 주기 내에서 약 99%의 분해 및 제거율을 달성할 수 있음이 확인되었습니다.
GMY: 산업용 172nm 엑시머 광원 솔루션 제공업체
GMY는 특수 전기 광원 분야에서 축적해 온 심도 있는 기술력을 바탕으로 172nm 엑시머 광 기술 연구 개발의 종합적인 기반을 구축했습니다. 최첨단 수처리 및 난분해성 오염물질 분해를 넘어, 당사의 모듈형 솔루션은 산업용 광세척, 고효율 광중합, 표면 소수성 개질, 초순수 생산 과정의 TOC 심층 저감 등 핵심 공정에 널리 활용되고 있습니다.
당사는 최첨단 광자 기술을 활용하여 다양한 산업 분야의 환경 규제 한계를 극복하고, 연구 기관, 고급 제조업체 및 현대 환경 엔지니어링 기업에 고품질의 특수 광원 부품과 맞춤형 OEM/ODM 서비스를 지속적으로 제공하고 있습니다.
