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재료 표면 처리 장치

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  • 172nm 엑시머 고에너지 UV 세척 장치 반도체 배터리 표면 개조

    그만큼 172nm 엑시머 UV 장치 배달합니다 고에너지 광세척 그리고 나노 수준 표면 개조 반도체, 배터리 및 첨단 소재 분야에 사용됩니다. 172nm의 차가운 자외선 광자를 활용하는 이 소형 시스템은 기판 손상 없이 유기 화학 결합을 끊고 오염 물질을 산화시킵니다. 높은 균일성을 제공합니다. ±15% 작동 온도가 40°C 미만이므로 기존의 저압 수은 램프를 대체할 수 있는 친환경적이고 에너지 소비가 적은 대안을 제공합니다.

    172nm 파장

    > 45 mW/cm²강함

    30Lpm질소 투입

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